用氮?dú)獯蹈蓸悠罚苊鈿埩羲帧?/div>
樣品固定：
將樣品用高溫膠帶或?qū)Ｓ脢A具固定在樣品臺(tái)上，確保平整、牢固。
調(diào)整樣品位置，使靶材正對(duì)樣品，距離通常為50-100mm。
靶材安裝：
打開濺射室上蓋，將靶材（如金屬釩、氧化鋁）裝入靶位，確保靶材與靶座接觸良好。
關(guān)閉濺射室上蓋，檢查密封性。
三、真空系統(tǒng)操作
預(yù)抽真空：
關(guān)閉所有閥門，打開機(jī)械泵，開啟旁抽角閥，對(duì)濺射室進(jìn)行預(yù)抽真空。
當(dāng)真空度降至10Pa以下時(shí)，關(guān)閉旁抽角閥，打開電磁閥，啟動(dòng)分子泵。
高真空抽取：
分子泵轉(zhuǎn)速達(dá)到穩(wěn)定后，打開高閥，繼續(xù)抽真空至本底真空度（通常為6.6×10??Pa以下）。
抽真空過程中，可通過氦質(zhì)譜檢漏儀檢測系統(tǒng)漏率（應(yīng)小于10??Pa·L/s）。
四、氣體控制與清洗
氣體通入：
打開氬氣瓶總閥，調(diào)節(jié)減壓閥至工作壓力，打開流量計(jì)，向?yàn)R射室通入氬氣。
通過調(diào)整氬氣流和分子泵閥門，使腔內(nèi)氣壓穩(wěn)定在工作氣壓（通常為0.5-5Pa）。
樣品清洗（可選）：
若需去除樣品表面氧化物，可開啟偏壓電源，設(shè)置偏壓功率（如50-100W）和清洗時(shí)間（如5-10分鐘），進(jìn)行偏壓濺射清洗。
五、預(yù)濺射處理
啟輝測試：
打開直流電源或射頻電源，設(shè)置功率（如50-200W），觀察輝光是否正常。
若輝光不穩(wěn)定，調(diào)整匹配網(wǎng)絡(luò)或氣壓，直至啟輝正常。
預(yù)濺射：
關(guān)閉樣品擋板，進(jìn)行預(yù)濺射（通常為5-10分鐘），去除靶材表面氧化物和雜質(zhì)。
預(yù)濺射過程中，觀察輝光顏色和穩(wěn)定性，確保靶材表面清潔。
六、正式濺射鍍膜
參數(shù)設(shè)置：
根據(jù)工藝要求，設(shè)置濺射功率（如100-500W）、工作氣壓（如0.5-3Pa）、樣品轉(zhuǎn)速（如5-20rpm）等參數(shù)。
若需反應(yīng)濺射（如制備氧化鋁薄膜），可通入氧氣或氮?dú)猓{(diào)節(jié)氣體流量比（如Ar:O?=4:1）。
濺射鍍膜：
打開樣品擋板，開始正式濺射。
通過膜厚儀或計(jì)時(shí)器控制鍍膜厚度（如100-500nm）。
濺射過程中，定期觀察輝光和真空計(jì)讀數(shù)，確保設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定。
七、設(shè)備關(guān)閉與樣品取出
關(guān)閉設(shè)備：
濺射完成后，先關(guān)閉靶材電源，停止濺射。
關(guān)閉氣體流量計(jì)和氣瓶總閥，繼續(xù)抽真空至10?³Pa以下。
關(guān)閉分子泵和機(jī)械泵，等待分子泵轉(zhuǎn)速降為0后，關(guān)閉電磁閥和高閥。
取樣：
打開充氣閥，向?yàn)R射室充入氮?dú)饣蚩諝猓燎粌?nèi)氣壓與大氣壓平衡。
打開濺射室上蓋，取出樣品，注意輕拿輕放，避免樣品損傷。
后續(xù)處理：
若需退火處理，將樣品放入退火爐中，按工藝要求進(jìn)行熱處理。
關(guān)閉冷卻水和設(shè)備總電源，清理設(shè)備周圍環(huán)境。
掃碼加微信