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卷對卷PECVD石墨烯制備設備主要應用于計算機和智能手機屏幕，超輕、柔性的太陽能電池，以及新型的發光設備和其他薄膜電子產品

半導體PECVD設備氣相沉積系統適用于在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜，成膜質量好，針孔較少，不易龜裂，適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件，可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。

單溫區旋轉PECVD石墨烯制備系統用于制備石墨烯，是一種 “低溫、直接生長” 的技術。它尤其適合在非金屬基底（如絕緣襯底）上生長石墨烯，避免了從金屬催化劑轉移的復雜過程

卷對卷式太陽能電池片PECVD氣相沉積系統是等離子增強型化學氣相沉積設備（PECVD），并加裝了收放卷裝置。本設備可用于線材的連續化熱處理工藝中，如碳纖維制備、合金及其他材料線材改性處理等應用中。也適合用于石墨烯在卷材上的連續生長。

二氧化硅薄膜沉積等離子增強CVD系統由等離子發生器，三溫區管式爐、單溫區管式爐、射頻電源、真空系統組成。等離子增強CVD系統為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應。

CY-PECVD50R-1200-Q是一款光學薄膜PECVD等離子增強型CVD系統。此系統由150W射頻電源、單溫區管式爐、3通道質子流量計控制系統、性能優異的真空泵組成。