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等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜機(jī)配備了直流濺射靶和熱蒸發(fā)組件,不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜,也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或者其他金屬單質(zhì)的薄膜。
小型高真空等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發(fā)組件,不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜,也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或者其他金屬單質(zhì)的薄膜。
等離子濺射蒸發(fā)二合一鍍膜儀,可用于電子產(chǎn)品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實(shí)驗(yàn)室SEM(掃描電鏡)的樣品制備。
等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發(fā)組件,不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜,也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或者其他金屬單質(zhì)的薄膜。儀器元件高度集成化,在同一個(gè)腔體內(nèi)即實(shí)現(xiàn)了兩種鍍膜功能;本鍍膜儀采用304不銹鋼腔體作真空腔體,鍍膜過程可見。儀器標(biāo)配雙極旋片真空泵,能夠快速達(dá)到1.0E-3Pa的真空度,極限真空度1.0E-5Pa,可滿足大多數(shù)蒸發(fā)鍍膜實(shí)驗(yàn)和二極濺射實(shí)驗(yàn)所需的真空環(huán)境。本儀器體積小,節(jié)省空間,能夠置于試驗(yàn)臺(tái)上使用,一機(jī)多用,性價(jià)比突出,非常適合各大高校及研究機(jī)構(gòu)選用。
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