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CY- MIOP500 為高真空多弧離子鍍膜儀，制備多元非晶合金,制備金屬化合物，如氧化物和氮化物薄膜（氧氣或氮氣氛圍）,制備納米顆粒催化劑膜,用熱電材料靶材制備熱電效應薄膜

實驗室多弧離子鍍鍍膜儀是利用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發物或反應物沉積在基片上，多弧離子鍍鍍膜儀十分適合鍍硬質保護膜如TiN等

本設備為多弧等離子鍍膜設備。多弧離子鍍是利用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發物或反應物沉積在基片上。本設備配有兩個多弧靶，分置于腔體兩側。配合行星式樣品臺可有效的提高鍍膜效率，改善成效果該鍍膜儀還采用一體化設計，腔體和電控部分左右分置，實現了水電分離，有力的保證了用戶的**。

實驗室多弧離子鍍鍍膜儀是利用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發物或反應物沉積在基片上十分適合鍍硬質保護膜如TiN等。

CY- MIOP500 為高真空多弧離子鍍膜儀，制備多元非晶合金,制備金屬化合物，如氧化物和氮化物薄膜（氧氣或氮氣氛圍）,制備納米顆粒催化劑膜,用熱電材料靶材制備熱電效應薄膜