特點

可對粉體材料進行表面包覆:采用磁控濺射，濺射時粉體材料在腔體內翻滾，達到粉體表面均勻包覆;

可抽真空、通氣氛

基本參數

電源

AC220V  50HZ

功率

<1500W

射頻電源

輸入電源

220V  3A

輸出功率

0-300W

輸出頻率

13.56 HZ

冷卻方式

設備內部的冷卻方式為風冷

尺寸

444(長)*410(寬)*128(高)

磁控濺射頭

2英寸磁控濺射頭(帶有水冷夾層)，采用快速接頭與真空腔體相連接；

靶材尺寸

φ50*(≦3mm)mm厚

2英寸磁控濺射頭

射頻功率300w

2英寸磁控濺射頭

直流功率500W

濺射腔室

濺射腔室為石英玻璃材質的異形連熔爐管，尺寸：（Ф 100+Ф 150+Ф 100）×800 (mm)；

腔室可旋轉，轉速1-10rpm可調，速度通過前面板上的調速器調節，顯示屏顯示轉速

腔體兩端采用磁流體法蘭與不銹鋼密封法蘭通過快速連接的方式進行密封，法蘭兩端安裝有支撐架支撐磁流體法蘭。卸料時拆掉兩端磁流體法蘭，將爐體傾斜（由前面板的旋鈕控制），即可快速出料。

左端法蘭上安裝了一個φ6.35的卡套接頭作為進氣口使用，一個不銹鋼針閥控制進氣的通斷，一個量程為-0.1-0.15MPa的機械壓力表用于觀察爐管內壓力;一個φ19mm的通孔用于通入濺射靶頭到腔室內部

右端法蘭上的一個φ8m的寶塔嘴接頭作為出氣口使用，一個不銹鋼針閥控制出氣的通斷，一個KF25的接頭與真空系統相連，一個KF16的接口作為備用接口，可選配安裝數顯真空計;

右端法蘭在腔體內的位置安裝了一個石英檔板，檔板上安裝了四個不銹鋼擋條用于攪拌打散物料，使其能充分濺射。

腔體頂部安裝了一個防護置，以屏蔽等離子體，防護置頂部有一個長寬為240m的石英觀察商口，可以觀察物料濺射情況.

加熱系統

在旋轉石英濺射腔體外部,包覆有一層加熱裝置,可以實現對旋轉腔體的加熱。

加熱系統通過 PID 溫控儀表實現程序控溫。

腔室氣密性允許的*高加熱溫度為 200℃;但加熱系統可設置溫度不受此限制，在超過200℃下運行導致的部件損壞不由廠家承擔責任。

控溫精度:±1°C

真空系統

無油渦旋真空泵;型號::CY-GWSP600，參數如下：

排氣速度:8.71/s;31.3m3 /h

極限真空度:1Pa

噪音值:三6ldB(A)

漏率(排氣口和氣鎮閥關):1*10-8Pa·m 3/s

*大進/排氣壓力:0.1/0.13MPa

工作環境溫度:5~40C

冷卻方式：風冷

進/排氣口尺寸：KF40/KF16

單相電機:

功率 0.75kW;

電壓:～115V(50Hz/60Hz)；200～230V50Hz/60Hz),兩種電壓選擇；

轉速：1425(50Hz)，1725(60Hz) rpm；

接頭形式：國標、北美、歐洲、英國/愛爾蘭、印度

三相電機：

功率：0.75kW;

電壓：200～230 和 380～415(50Hz)；或 200～230 和 460(60Hz)V

轉速:1425(50Hz)，1725(60Hz) rpm

水冷設備

型號:KJ-5000

工作電流:1.4-2.1A

制冷量:2361Btu/h

尺寸: 55X28X43cm(長X寬X高)

水箱容量:6L

水流速率:16L/min

設備外形尺寸

1500mm(L)*1000mm(W)*1500mm(H) 防護罩打開時的尺寸

重量

約100kg