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產(chǎn)品型號:CY-MSZ200-I-DC-AL
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
更新時間:2025-09-07
訪 問 量:144產(chǎn)品分類CLASSIFICATION
詳細(xì)介紹
| 品牌 | CYKY | 價格區(qū)間 | 5萬-10萬 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件 |
桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀是一種緊湊型鍍膜設(shè)備,采用磁控濺射技術(shù)在基片表面沉積薄膜。其核心特點包括:
鋁合金真空腔體:輕量化設(shè)計,耐腐蝕性好,適合實驗室或小規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境。
單靶配置:支持單一靶材(如金屬、合金或氧化物),結(jié)構(gòu)簡單,操作便捷。
磁控濺射技術(shù):利用磁場約束等離子體,提高濺射效率,形成均勻、致密的薄膜。
桌面設(shè)計:體積小巧,適合科研院所、高校實驗室等空間有限的場所。
應(yīng)用領(lǐng)域:
該設(shè)備廣泛用于材料科學(xué)、光學(xué)、電子等領(lǐng)域,具體包括:
光學(xué)薄膜:如增透膜、反射膜、濾光片等。
電子器件:半導(dǎo)體電極、導(dǎo)電薄膜(如ITO)、傳感器涂層。
功能材料:耐磨涂層(如TiN)、防腐涂層、超硬薄膜(類金剛石)。
科研實驗:新材料開發(fā)、薄膜性能測試、教學(xué)演示等。
磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):
產(chǎn)品名稱 | 桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀 | |
產(chǎn)品型號 | CY-MSZ200-I-DC-AL | |
樣品臺 | 外形尺寸 | φ50mm |
旋轉(zhuǎn) | 自轉(zhuǎn)+公轉(zhuǎn)角度傾斜2英寸 | |
可調(diào)轉(zhuǎn)速 | ≦20rpm | |
磁控靶槍 | 配一支兩英寸磁控靶,靶材尺寸:直徑50.8mm,厚度≦3mm | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | φ180mm X 150mm |
腔體材料 | 鋁合金 | |
開啟方式 | 上蓋拆卸式 | |
真空系統(tǒng) | 真空測量 | 復(fù)合真空計,量程:10-5~105Pa |
抽氣接口 | KF25 | |
系統(tǒng)真空 | 1.0E-1Pa(機(jī)械泵) | |
供電電源 | AC 220V 50/60Hz | |
輸出功率 | 直流電源500W | |
其他參數(shù) | 供電電壓 | AC220V,50Hz |
整機(jī)功率 | 2kW | |
重 量 | 30kg | |
整機(jī)尺寸 | 385X450X420mm | |
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